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我们介绍了一种使用三层光刻胶工艺和电子束光刻技术,通过一次曝光制造出大量微观空气桥的技术。该技术能够形成具有牢固的金属-金属或金属-基板连接的空气桥。该技术已在由 400 个相同的表面栅极组成的电子隧道装置中得到应用,用于定义量子线,其中空气桥用作表面栅极的悬浮连接。该技术使我们能够创建大量两端均开放的均匀一维通道。在本文中,我们概述了制造工艺的细节,以及该技术开发中存在的挑战的研究和解决方案,其中包括使用水-IPA(异丙醇)显影剂、校准光刻胶厚度和对开发进行数值模拟。
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